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有效光刻胶扩散长度相关论文
130nm以下光刻禁止光学空间周期的系统性研究
禁止光学空间周期“Forbidden Pitch”是光学临近效应修正(0PC)中必须要面对并解决的问题之一.它主要出现在1.1~1.4倍(曝光波长/数值孔径)的......
期刊
禁止光学空间周期
掩模版误差因子
有效光刻胶扩散长度
光学临近效应修正
离轴照明
深紫外线
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