金刚石具有独特的物理化学性能，化学性质稳定，硼掺杂金刚石(BDD)薄膜不仅是宽禁带的半导体材料，同时又具有优异的物理和化学特性，因而......

以H2和CH4为反应气源,采用热丝化学气相沉积法（hot filament chemical vapor deposition,缩写HFCVD）,于不同温度下,在金属Mo表面上制......

金刚石具有独特的物理化学性能,化学性质稳定,硼掺杂金刚石(Boron-doped Diamond, BDD)薄膜不仅是宽禁带的半导体材料,同时又具有......