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本文采用反应磁控溅射的方法,以Si(111)为基底,在不同的氩氮流量比(即不同氮分压)的条件下,制备了一系列的TiN薄膜.用XRD和SEM表征......
采用了不同的氩氮体积混合比进行等离子喷涂实验,并获得相应条件下的涂层.用CCD数码相机采集了射流的形态和温度场,SX-40扫描电镜......
