反应磁控溅射相关论文
微电子器件的迅速发展对TiN电极薄膜电阻率、表面粗糙度以及厚度均匀性均提出了更高的要求。本文采用半导体工艺兼容的反应磁控溅......
高熵合金碳化物（HEAC）薄膜具有高硬度、耐磨性和耐腐蚀性良好等特性，在摩擦腐蚀环境下的材料防护领域具有广阔的应用前景，但关于HEAC薄......
钛及钛合金以其优异的力学性能、良好的耐腐蚀性以及优良的生物相容性在医用金属材料领域得到广泛应用,其中Ti-6Al-4V合金是当前医......
随着材料科学的发展,传统的TiC和TiN薄膜材料不能满足切削刀具材料的要求,Ti-Si-N膜具有高硬度、低摩擦因数、良好的热稳定性和化......
冲击片雷管具有安全性高、时间控制精度高、响应速度快等特点,能有效提升武器系统在复杂战场环境中的生存能力及作战效能,对我国国......
近年来,由于周期结构涂层因其多界面效应、晶粒细化和周期可调制等特点,使得涂层具有较高硬度、良好韧性、优秀的耐磨耐腐蚀和防止......
随着信息技术的发展,无线电力传输作为一种重要的电源技术而引起了人们的广泛关注。肖特基势垒二极管（Schottky batrrier diode,SBD......
用直流磁控溅射法, 通过改变餓射总气压及N2与Ar的比例,在玻璃基片上制备了一系列TiN薄膜试样, 利 用X射线衍射仪(XRD)和X射线光电......
采用射频反应磁控溅射系统，在K9双面抛光玻璃基底上制备氮化铝薄膜，通过实验测试并结合数值拟合计算研究了其他参数保持不变的条件下......
电致变色玻璃可以主动调控玻璃的采光和遮阳性能,实现智能化,是建筑节能玻璃发展方向。相比其它电致变色材料,氧化钨因变色幅度大......
采用反应磁控溅射法在ITO玻璃上制备氮掺杂氧化钨(WO3:N)薄膜。采用XRD、XPS、AFM对薄膜的结构、成分、结合键和表面形貌进行表征......
采用反应磁控溅射法制备二氧化钒(VO2)薄膜,并对其进行快速热处理(RTP)。主要研究500℃快速热处理10、15、20s工艺条件下VO2薄膜结......
室温下,采用脉冲直流反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了氧化钒薄膜。研究了脉冲调制功率占空比对薄膜物相、表面形貌、组分和热......
钛合金是优质的结构材料、新型的功能材料。在航空航天领域中,TA15钛合金是一种高铝当量损伤容限型钛合金,具有优异的力学性能,使......
报道一种制备高性能氧化钒热敏薄膜的方法和其应用.采用反应磁控溅射薄膜沉积技术,通过改变氧化钒热敏薄膜沉积时溅射功率,从而调......
进入二十一世纪,信息通讯高速发展,对于高传输速率大带宽的需求日益迫切,这不仅需要信息传输协议的不断优化,而且需要新型材料制备......
钠硫电池具有能量密度高、功率密度高、自放电率低、应用领域广及原料成本低等优点,作为储能电站和特种电源具有很好的前景。然而,......
利用直流反应磁控溅射法在Si衬底上沉积了高结晶质量的氮化锆(ZrN)薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、......
采用Ti靶和ZrO2靶在Ar、N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,在不同预处理的基底上沉积制备了一系列的TiN/ZrON周期结构多层膜.利......
太阳能电池是光伏发电技术的核心,光电转换效率是表征太阳能电池性能的关键参数。高掺杂浓度的p+层是晶硅太阳能电池的基本结构之......
氮化钛是过渡金属氮化物,它由离子键、金属键和共价键混合而成,它具有高强度、高硬度、耐高温、耐酸碱侵蚀、耐磨损以及良好的导电......
硅锗纳米材料由于自身的优良性能以及在光电方面展示出的与常规材料不同的特性,使得其在微电子和光电子领域内有着广泛的应用前景......
角度不敏感颜色滤光片在显示、大角度探测、无油墨印刷等领域具有重要的应用前景,其中金属-介质-金属型角度不敏感滤光片具有透过......
随着高速干切削技术的广泛应用,对刀具涂层的性能提出了更高的要求。如何获得兼备高硬度和低摩擦系数的刀具涂层,是目前涂层开发中......
该论文介绍了节能镀膜玻璃特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类及常用的制备方法,并总结出以钛元素......
以纳米多层膜和纳米晶复合膜为代表的纳米结构薄膜因能够通过合理设计其成分和微结构得到超过40GPa的超高硬度而获得广泛关注。不......
择优取向AlN薄膜具有一系列独特的优良物理化学性质，在电子学、光学、声学和力学等方面有广阔的应用前景。 本研究工作采用MIS80......
本论文通过研究反应磁控溅射工艺对薄膜光损耗的影响以及存在的机理，探索合适的薄膜沉积工艺以达到减少薄膜光损耗、制备高质量光学......
TiN薄膜具有耐磨、高硬度等特点，十分适合做刀具、轴承涂覆膜层。它不但能提高工具的耐磨性，还能延长工具寿命3～5倍。TiN薄膜呈独特的......
VO_2薄膜是一种具有典型热致相变特性的功能材料,在68℃附近会发生低温半导体态到高温金属态的可逆转变,在转变过程中电阻率和红外......
随着集成电路工艺的发展，铜替代铝成为新一代的互连材料。为了防止铜扩散进硅器件中引起器件性能受损以及提高铜与硅、二氧化硅的粘......
本文采用反应磁控溅射制备了具有不同成分和结构设计的TiAlON吸收层薄膜和完整结构的TiAlON太阳能选择性吸收薄膜，并对制备的TiAlON......
透明导电掺铝氧化锌ZnO:AI(AZO)薄膜以其较低的电阻率和可见光范围内的高透过率，可与目前广泛应用的掺锡氧化铟(ITO)薄膜相媲美，而且......
ZnO是一种新型宽禁带Ⅱ-Ⅳ族化合物半导体材料。其一维纳米结构表现出独特的物理化学性质,因而在纳米器件领域具有广泛的应用前景......
硅基发光材料是实现光电子集成技术的关键，而制备低维硅基纳米材料是获得稳定发光的重要途径之一。因为对于硅纳米材料，当尺寸小到一......
学位
基于硬质薄膜的研究现状,主要分析两种具有代表性的硬质薄膜—氮化物薄膜和类金刚石薄膜的最新研究进展及存在的主要问题,提出了本......
TiO2是一种n型半导体氧化物，二氧化钛薄膜具有优良的光催化性和光致亲水性，在自清洁，抗雾玻璃，污水处理等方面有广泛的应用。新制备的......
A1N优异的物理化学性能使得A1N薄膜在压电、光电子及声表面波等领域有着广阔的应用前景，因而受到人们广泛的关注和研究。本文使用超......
人体植入型支架材料表面内膜增生问题限制了支架的临床应用。放射性支架、药物涂层支架和可降解支架的研究虽然取得了一定的成果，但......
在科学技术日新月异的当今社会，半导体薄膜材料以其优异的半导体特性和特殊的小尺寸效应已经成为了科技材料研究的热点。目前研究比......
利用磁控溅射技术在蓝宝石(Al2O3)衬底上制备了InN薄膜。纯金属铟为靶材，溅射气体为Ar，反应气体为N2。用X射线衍射仪、扫描电子显微......
本文研究了沉积条件对薄膜的结构和光学性能的影响，薄膜的微结构与其光学性质的关系，以及如何能够更加准确计算薄膜的光学常数，提......
本文通过发射光谱实验,研究了一种以ICP的电源配给方式提供给天线,激发处在恒定磁场中的石英钟罩内的气体来形成等离子体,我们称之......
在工业应用中通过表面涂层技术来提高切割工具、轴承、模具等的寿命是非常重要的,因此低摩擦系数、高硬度及耐腐蚀和抗氧化的涂层......
