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SiCOH低k介质中低表面粗糙度沟道的刻蚀研究
采用60 MHz/2 MHz双频率驱动的容性耦合放电等离子体技术,以C2F6/O2/Ar为刻蚀气体,开展了SiCOH低k介质中刻蚀低表面粗糙度沟道的研......
期刊
SiCOH低k介质
沟道刻蚀
双频容性耦合等离子体
表面粗糙度
沟道剖面结构
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