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高均匀性150mm 4H-SiC外延生长
本文采用单片热壁反应炉在偏4°斜切150mm 4H-SiC衬底上进行同质外延生长.首先,通过不引入基座旋转进行外延生长,分别测量出水平和......
期刊
4H-SiC
生长源气
掺杂源气
均匀性
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