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Ⅳ型凹面全息光栅是一类重要的分光元件，它具有自聚焦和消像差特性，在现代光谱仪器中有着广泛的应用。但是，由于设计和制作比较困难，国......
用流体力学理论分析了ＩＣ制造技术中离心式涂胶过程胶液的受力流动状态，推导出反涂胶厚度与离心机转速、胶液粘度等参烽变化 规律的数......
研究了离心式涂胶工艺理论以实现在凹球面内表面涂布厚度均匀的光刻胶。首先,讨论了影响膜厚均匀性的主要因素;接着,用流体力学理......
建立了凹球面基底离心式涂胶的数学模型。基于流体力学理论对旋转凹球面上的光刻胶做了受力分析,根据凹球面的面形给出了流体方程......
