镀钨相关论文
随着微电子技术的不断发展,单位面积电子元器件散热量不断增加。为了保证电子元器件正常工作及稳定,需尽快把热量散发出去。高性......
元坝气田是世界范围内陆上气田投产作业风险最高的工程项目之一,超深、高温、高含H2S、中含CO2,经济安全防腐矛盾尤为突出。考虑经......
本发明公开了一种金刚石、立方氮化硼颗粒表面镀钨、铬、钼的方法及设备,该方法包括以下步骤:首先在加热室对清洁的金刚石、立方氮化......
采用球磨混粉和放电等离子体烧结制备了镀钨碳纳米管/铝(W-CNTs/Al)复合材料,对复合材料组织形貌进行了透射电镜和扫描电镜观察,研......
对Na2WO4-WO3-ZnO体系熔盐镀钨工艺进行了详细研究,得到了获得金属钨镀层的工艺条件。结果表明:在空气气氛中,当氧化钨的浓度为15%~30%时,于850~950℃能得到金属钨镀......
用平行四电极法研究了Na2WO4-ZnO-WO3熔盐体系在x(Na2WO4)为0.40~1.00,x(ZnO)为0~0.4,x(WO3)为0~0.50组成范围内的电导率.结果表明:体......
采用金属有机化学气相沉积工艺在碳纳米管(CNTs)表面包覆了W金属层。采用磁力搅拌和放电等离子体烧结工艺制备了镀钨碳纳米管(W-CNTs)......
通过溅射的真空蒸发镀膜使超薄切片机上使用的玻璃刀口上带有一层钨膜。用常规方法制作45°角玻璃刀,将六把新制的刀放到真空......
在耐热钢基体上用Na2WO4-ZnO-WO3体系熔盐镀钨,比较了脉冲镀与直流镀对钨镀层性能的影响。在相同镀液配比条件下,脉冲镀可扩大电流密......
以羰基钨为前驱体,采用金属有机化学气相沉积在碳纳米管表面镀覆了金属钨,利用磁力搅拌混粉和放电等离子体烧结制备了镀钨碳纳米管......
对KF-B_2O_3-K_2WO_4熔盐体系的电镀钨工艺进行了详细研究。实验条件如下,温度:770~990℃,K_2WO_4浓度:9~20m/o,基体材料:钼、铜、镍......
采用循环伏安法和计时电流法研究了钨在KF-B2O3-K2WO4(62-37-1m/o)熔体中(T=795℃)铂电极上成核动力学过程。实验结果表明:该过程符合扩散步骤控制的半球形三维晶核连......
确定了Na2WO4-ZnO-WO3熔盐体系中镀钨的最佳工艺条件.以钨板为阳极、耐热钢为阴极进行了电流密度、电流波形以及温度对镀层质量的......
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