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采用室温磁控溅射技术在镁合金(AZ91D)表面制备了CNx/SiC/Ti(氮化碳/碳化硅/钛)多层膜(SiC、Ti为中间层),研究了CNx薄膜的纳米压痕......
采用室温磁控溅射技术在镁合金（AZ91D）表面制备DLC/SiC/Ti（类金刚石/碳化硅/钛）多层膜（SiC,Ti为中间层）,研究了薄膜的纳米压痕行为和膜基......
采用室温磁控溅射技术在镁合金（AZ91D）表面制备出DLC／SiC（类金刚石／碳化硅）双层薄膜（SiC为中间层），研究了薄膜的纳米压痕行为、膜基黏附力和......
