磁控溅射相关论文
WO3是一种重要的电致变色材料，可应用于屏幕显示、航天热控及智能窗等诸多领域。然而在实际应用中，WO3的稳定性不足，这极大地制约了其......
提升真空断路器CuCr触头的抗电弧烧蚀能力是决定其能否应用于高压真空灭弧室的核心关键，尚未见有效触头材料或表面涂层改性技术使Cu......
期刊
为了提高靶面水平磁感应强度的均匀性，设计了一种内外永久磁铁以“内圆外方，外围圆”的方式排布的圆平面磁控溅射靶阴极结构，并利用CO......
在镀锌板表面应用磁控溅射技术制备Al-Mg合金镀层并研究其性能，通过改变Al靶与Mg靶功率控制Al-Mg合金成分，改变温度、Ar气压强和溅射......
随着电子组件不断向微型化、高频化和集成化方向发展,高频磁性元器件的发展已成为制约集成化的重要因素。基于上述背景和需求的推......
采用磁控溅射工艺,以Fe3O4磁性导体作为基底材料在其表面制得Nd Co Cr合金薄膜,分析了加入不同比例Co的情况下制得的Nd-Co非晶薄膜......
微弧氧化和磁控溅射均作为较新的表面防护技术，具有一定的优越性，但也不可避免地存有缺点。因此，两技术的复合受到了研究者的关注。介......
ZnS作为一种宽带隙半导体,以其优异的光电性能近年来受到广泛关注,在太阳能电池、光催化剂以及传感器方面有着广阔的应用前景.本文......
钕铁硼磁性材料具有高的磁能积、高剩磁密度、高矫顽力等优异的磁学性能以及体积小、质量轻等优点,日益广泛地用于新能源汽车、电......
在电连接器接触件表面镀层中，镍一般作为铜基底和表面金之间的过渡层，起到改善耐磨性和阻止金铜相互扩散的作用。基于正交实验法，使用......
AlN薄膜是第三代半导体材料,具有带隙宽、优良的声波特性、高热导率、优异的稳定性等特点,在光电、医学等多领域都非常有应用前景......
随着移动通信技术的不断发展,通信频段不断提高,同时工作带宽也将进一步增大,对现有的滤波器在性能上提出了新的需求。传统的声表......
热作模具工作环境恶劣,容易发生各种失效,因此如何提升高温工作环境下模具的性能,是延长热作模具寿命的关键。目前涂层技术在热作......
为了提高风电绝缘轴承的机械性能和绝缘性能，延长其在复杂工况下的服役寿命，采用磁控溅射法在绝缘轴承陶瓷涂层表面沉积金属镍膜，设计......
专用设备中服役环境需接触强氟化物,某部件使用特殊不锈钢材料制成,但其不耐强氟化物腐蚀,需对其进行表面处理。本文开展了磁控溅......
磁控溅射法制备氮化硅薄膜具有工艺简单、粉尘少等优点,氮化硅薄膜在微电子机械系统（MEMS）领域中可用作腐蚀掩蔽层和力学结构层。以......
氧化镓（Ga2O3）半导体是一种新型的宽禁带半导体材料,其宽达4.9 e V的带隙对应于波长250 nm紫外区域,是一种天然的日盲探测器材料。但......
目的:通过控制磁控溅射的时间,在纯钛表面制备不同厚度的纳米氧化镁薄膜,评估其体外抗菌效果。方法:本研究选用直径14mm,厚3mm的圆......
中频磁控溅射镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参......
采用多源磁控溅射技术在玻璃衬底上制备Ga、Al共掺杂氧化锌（GAZO）/Ag/GAZO透明导电薄膜。对比实验发现通入O2溅射Ag能够提高薄膜在60......
氮化钛薄膜具有出色的涂层性能，如高硬度、低电阻率和良好的耐蚀耐磨性等，在汽车、航空航天和生物医学中有着广泛的应用。磁控溅射技......
随着电子元器件向集成化、高频化、小型化的发展,厚膜电阻器件在众多领域逐渐被薄膜电阻器件所取代。钽氮化物（TaNx）因其优秀的物理......
磁控溅射镀膜法有膜-基贴合度好、溅射薄膜均匀度好、溅射速率快等优点，用其制备的柔性传感器有较高的灵敏度。文章简述了磁控溅射......
近年来,以集成电路为主要方向的半导体相关产业得到了较快的发展。集成电路电路技术的进步离不开半导体制造工艺的逐步改进,而磁控......
采用磁控溅射的方法在Cu箔上制备了Si/Ge/C、Si/C/Ge和Si/C/Ge/C 3种不同的层状结构，其中硅层的厚度约为75 nm，锗层的厚度约为27 nm，......
WO3是目前研究最为广泛的无机电致变色材料,通常被用来制备电致变色器件的核心电极层。其在外加电压作用下会发生电子和离子的双重......
目的 制备高纯度、超硬、高耐磨的Zr-B-N纳米复合涂层。方法 在反应气体中掺入还原性气体H2，利用氢元素强还原性去除真空室以及反应......
电致变色是指通过外加电流或者电压的条件下,随着阳离子的嵌入/脱出,材料颜色可由某种状态逐渐过渡到其他状态,通过交换电场或电流......
以氧化铟锡（ITO）玻璃为基底，采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiOx薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子电镜（SEM......
基于裂纹模板法制备了一种高屏蔽性能的金属网格透明导电薄膜.采用现有裂纹模板法制备得到的金属网格透明导电薄膜,其金属网格厚度......
用磁控溅射法在锆合金基体表面制备Cr和CrAl层，并使其在1200℃/1 h水蒸汽中氧化，用扫描电子显微镜（SEM）、能谱仪（EDS）和X射线衍射仪（XRD）等......
聚偏氟乙烯（PVDF）及其共聚物因具有高介电常数而备受关注，然而高电场下严重极化损耗和电导损耗限制了其更广泛的应用。在该研究中，应用......
不同表面粗糙度的基板显著影响其溅射膜层的微观形貌、电阻以及残余应力，同时其本身的制备成本也相差甚远。选择表面粗糙度适合的基......
文章设计了非晶氧化物薄膜晶体管制备及电学性能综合性教学实验项目。实验教学实践表明，通过真空溅射镀膜、器件微加工及性能检测等......
为解决测温元器件薄而不柔的问题，适应柔性测温技术需求，采用真空卷绕磁控溅射技术制备T型柔性薄膜热电偶。通过对制备过程中溅射功......
有机无机杂化钙钛矿太阳能电池（Perovskite solar cells,PSCs）以其高效的光吸收能力、优异的载流子迁移能力和高的光电转化效率（Power......
透明导电氧化物（TCO）薄膜因其兼具透明和导电的特性，被广泛应用于各个领域中。氧化铟（In2O3）基TCO薄膜，因其高透明度、低电阻率、高迁移......
2011年福岛核事故后,锆合金包壳相关的安全问题成为了世界范围内核材料研究者关注的焦点,如何进一步提高包壳材料事故条件下的安全......
金属玻璃薄膜是在金属玻璃的基础上发展出来的一种新型薄膜材料,一方面继承无序原子排列结构所赋予的优异物理、化学和机械性能,另......
压敏电阻因为其典型的非线性电流-电压（I-V）特性,已经被广泛用于对集成电路及其他电子设备的电路进行保护,防止因静电放电、浪涌及其......
二氧化钛纳米管属于一维纳米材料，既具有纳米材料普遍具有的量子尺寸效应，还具有独特的机械性、热稳定性和光学性质，因此其具有特殊的......
贵金属靶材在半导体集成电路、显示器、电子部件反射膜、光学记录媒体、磁记录材料、玻璃功能薄膜、装饰首饰等领域有广泛的应用，本......
为解决硫化过程中 Sn 元素损失的问题以及减少 MoS2的厚度，采用磁控溅射技术，在基于钼的钠钙玻璃衬底上采用双周期溅射的方法，以 ZnO/......
锌黄锡矿结构的Cu2Zn SnS4（CZTS）薄膜太阳能电池作为新一代光伏技术,凭借低成本、清洁元素、稳定性好等优势,在未来具有巨大的发展前......
采用射频磁控溅射法沉积了P型非晶硅（a-Si）薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、拉曼光谱仪（Raman）、透射电子显微镜（TEM）分析了薄膜的结构，主要研究......
近年来,全固态锂电池因其高安全性和高能量密度等优势得到了广泛关注。其中,全固态薄膜锂电池是目前唯一能够商业化的全固态锂电池......
