用ＭＥＶＶＡ离子源将Ｌａ离子注入到单晶硅中形成掺杂层，用ＸＲＤ，ＳＥＭ分子掺杂层的物相和表面形貌。分析表明，在强流离子注入后，掺杂层中有硅化物形成，且形成相......