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高密度等离子体化学气相沉积相关论文
高密度等离子体填充浅沟道隔离产生空洞缺陷现象的解决方法研究
在半导体制造工艺中,CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)被广泛用于制备氧化物薄膜、氮化物薄膜,沉积钨金属等。在目前......
学位
浅沟道隔离填充
高密度等离子体化学气相沉积
空洞缺陷
深宽比
缺陷扫描
良率提升
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