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介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料......

介绍了65 nm/45 nm工艺的研究成果、157 nm F2 stepper技术、高k绝缘层和低k绝缘层等技术.着重讨论了157 nm F2stepper的F2激光器......