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BoronizationWall conditioning相关论文
HL—1M托卡马克中的硼化
用碳硼烷加氢直流辉光放电,在HL-1M托卡马克内壁上原位涂覆了含碳硼膜,平均厚度50-70nm硼碳比约为1:6。硼化后器壁条件有了本质的改善,对器壁上氧源的......
期刊
硼化
器壁条件
托卡马克装置
BoronizationWall conditioning
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