Cr-N相关论文
利用空心阴极离子镀（ＨＣＤ） 技术在硅片上镀一层均匀Ｃｒ＿Ｎ 薄膜。用Ｘ 射线衍射技术（ＸＲＤ） 分析了氮气分压对沉积的Ｃｒ＿Ｎ薄膜结构的影响。用椭偏测量术对Ｃｒ＿Ｎ 薄......
利用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）技术制备了Ｃｒ－Ｎ薄膜，并对不同能量氮离子轰击所制备的薄膜组成进行了Ｘ射线衍射及光电子能谱分析，测定了涂层的断裂韧性......
采用磁控溅射离子镀制备Cr-N薄膜,研究基体偏压对Cr-N薄膜组织结构和性能的影响。分别用辉光放电光电子谱(GDOES)、场发射扫描电镜......
利用离子束增强沉积技术， 在 Ｓｉ （１１１） 和 Ｇ Ｃｒ１５ 轴承钢基体上沉积 Ｃｒ Ｎ 镀层研究氮分压、 Ｎ＋ ＋ Ｎ＋２ 离子轰击能量和 Ｎｉｏｎｓ Ｃｒ ａｔｏｍｓ 到达比对镀层组织结构的......
研究了中铬钢和高铬钢在不同冷却速率下的显微结构和动态再结晶行为。结果表明,高铬钢在冷却速度不低于0.5℃/s,中铬钢冷却速率不......
采用连续压入法以及球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制Ｃｒ－Ｎ镀层膜基结合 强度，并对两种方法试验结果进行分析对比．试验结果表明，在......
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采用空心阴极放电离子镀（ＨＣＤ）技术，在硅基片上沉积ＣｒＮ薄膜．用Ｘ射线衍射技术（ＸＲＤ）及透射电镜（ＴＥＭ）分析了氮气分压对沉积的ＣｒＮ薄膜结构的影响．用电子探针（ＥＰＭＡ）及......
利用空心阴极放电离子镀（ＨＣＤ）技术，在低合金钢（６５Ｍｎ）基底上沉积ＣｒＮ薄膜，研究了氮气分压对ＣｒＮ薄膜结构及显微硬度的影响......
