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Cu大马士革互连相关论文
集成电路芯片制造中电化学机械平整化技术的研究进展
大马士革(Damascene)结构的Cu/低k介质材料互连技术为集成电路芯片制造提出了方向和挑战。电化学机械平整化(ECMP)作为化学机械平整化(CM......
期刊
电化学机械平整化(ECMP)
低K介质
Cu大马士革互连
摩擦电化学
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