用激光化学气相沉积法制备出平均粒径为１０ｎｍ 左右的ａＳｉ３Ｎ４ 纳米粒子．红外吸收和喇曼光谱研究表明ａＳｉ３Ｎ４ 纳米粒子中存在Ｓｉ—Ｎ，Ｓｉ—Ｈ，Ｎ—Ｈ，Ｓｉ—Ｏ—Ｓｉ键，分析了ａＳｉ３Ｎ４纳......

硅作为目前微电子工业的主导材料和硅集成电路的物质基础，一直以来都发挥着重要作用，推动一次又一次的电子科技革命。与普通的单质硅......

自行设计制备了激光诱导化学气相沉积法(LICVD)纳米制粉装置，利用该装置制备的纳米硅粉其粒度波动在30～60nm之间。通过对不同反应气......