该文研究了直流磁控溅射法在Ar+N2混合反应性气氛下沉积的(Ti,Al)N膜的高温力学和化学性能.其性能依赖于微观结构,因而受沉积参数......

采用多弧离子镀技术，用Ti—Al—zr合金靶和Cr靶，在W18Cr4V高速钢基体上沉积了（Ti，Al，Zr，Cr）N多元膜，并进行了600℃，700℃，800℃和900℃短时（4h......