ONO介质层相关论文
对普遍采用的氧化硅／氮化硅／氧化硅(ONO)三层复合结构介质层的制备工艺及特性进行了研究分析，研究了ONO的漏电特性以及顶氧(top oxide......
摘 要： 讨论了非易失闪存（NOR Flash）器件中ONO介质层厚度的精度控制.通过归一化不同密度器件分组，优化多层复杂薄膜的光学量测精度，优......
