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在室温、10 Pa氩气环境下,采用脉冲激光烧蚀(PLA)技术,通过改变激光能量密度,在烧蚀点正下方、与烧蚀羽辉轴线平行放置的衬底上沉......
用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）方法，在接近常压状态下，在氩气（Ar）和氢气（H2）的气氛中，以硅烷为源气体，在沉积区域加载脉冲负偏压对沉积......
当硅基发光材料得到广泛应用时，为了给硅基材料的设计及应用提供理论依据，利用基于密度泛函理论的第一性原理，对Er掺杂在Si纳米晶粒不......
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