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SiH4气体相关论文
红外激光作用下SiH4击穿过程的研究
测量了在脉冲TEACO2激光作用下iH4/Ar气体的击穿阈值与激光能量,激光频率的关系,通过研究SiH4/Ar的击穿过程,建立了击穿过程的物理模型,结果表明在强TEACO2红外激......
期刊
TEACO2激光
SiH4气体
击穿阈值
硅
簿膜
TEACO_2 laserSiH_4 gasbreakdown threshold
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