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MEMS加工中电感耦合等离子体(ICP)刻蚀硅片的模型与模拟
在MEMS器件及系统的制造中,电感耦合等离子体(ICP)对硅片的刻蚀工艺由于具备操作简单、各向异性性能好、刻蚀速率快、成本低等特点......
学位
电感耦合等离子体(ICP)
刻蚀
TMDE
Footing效应
模型
模拟
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