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采用溶胶凝胶法,结合旋转涂敷技术在石英衬底上制备了210—240nm厚度的ZnO∶In薄膜.使用掠角入射X射线衍射(GI_XRD)、常规X射线衍......
在室温条件下采用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了高质量的ZnO：In薄膜。并且研究了不同退火温度对ZnO：In薄膜的结构、光电性能的影......
氧化锌（ZnO）是II-VI族直接带隙（3.37eV）半导体氧化物材料,由于其优良的光电特性,在发光器件、液晶显示器、太阳能电池、气敏元件以及透......
借助射频磁控溅射法在石英衬底上制备了In掺杂ZnO薄膜(ZnO:In),研究了In掺杂浓度对薄膜结构、光学及电学性能的影响。结果表明:所......
