利用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英基片上沉积了非晶态ZrW2O3薄膜，对不同温度下热处理的薄膜进行了XRD分析；用扫描电镜观察了薄膜......

分别采用钨酸锆靶（ZrW2O8）和氧化锆（ZrO2）与氧化钨（WO3）的复合靶，在磁控溅射条件下制备钨酸锆（ZrW2O8）薄膜，研究了靶材制备工艺、复合靶成分......

负热膨胀（Negative thermal expansion,简称NTE）材料研究是材料科学中近年来新兴的学科分支,其中负热膨胀性金属氧化物具有负热膨胀......