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ECR-CVD方法生长a-SiNx:H薄膜的研究
使用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法室温生长了非晶氢化的氮化硅薄膜,通过改变前驱气体(SiH4+80%Ar和NH3)的流量比,研......
期刊
ECR-CVD
a-SiN3
H薄膜
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ECR - CVD a - SiNx : H film optical emission spectr
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