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large-formatlong-waveHgCdTeetchnon-uniformity相关论文
大面阵碲镉汞长波红外焦平面器件刻蚀工艺非均匀性研究
作为探测器组件的性能指标之一,响应率非均匀性对其实际应用具有重要影响,尤其是在低背景空间应用领域。大面阵探测器芯片的接触孔......
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