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ULSI介质CMP用大粒径硅溶胶纳米研磨料的合成及应用研究
针对超大规模集成电路多层互连结构中介质CMP抛光速率低,急需的大粒径硅溶胶研磨料,本文采用改进的粒径生长控制工艺制备介质CMP用......
期刊
超大规模集成电路
化学机械抛光
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