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nc-Ge相关论文
嵌埋在SiO_2基质中的nc-Ge的制备及其发光现象
采用等离子体化学汽相淀积技术生长aGexSi1-x∶H薄膜,然后在800℃,105Pa下于传统开口管式炉中氧化热处理,制备嵌埋在SiO2中的ncGe微晶粒.利用傅里叶变换红外光......
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