p型微晶硅相关论文
采用RF PECVD方法,在P a SiC:H薄膜沉积技术基础上,通过逐步减小碳、硼的掺杂浓度,增大氢稀释率,使材料从非晶态向微晶态转变,在获......
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采用等离子体辅助化学汽相沉积（PECVD）技术制备本征非晶硅薄膜，对p／i界面进行处理。在此基础上，制备P型微晶硅（μc—Si：H）薄膜与柔性太阳能......
本文报道了采用高压射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法制备高电导、高晶化率的p型微晶硅材料的结果.重点研究了反应压力......
