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α-C:H膜系与氮化物膜系的结构性能比较及机理分析
采用非平衡磁控溅射与阳极离子束技术制备Cr/α-C:H膜系,同时采用多弧离子镀技术分别制备Cr/CrNx与Ti/TiNx膜系,膜层厚度均为2μm。......
期刊
离子束技术
α-C
H膜
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TIN膜
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Ion beam technique α-C:H film Arc ion Plating TiN f
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