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“唤醒”效应相关论文
介观畴结构对HfO2基铁电薄膜极化稳定性影响的相场理论研究
Hf O2自2011年被发现存在铁电性能后,由于其与CMOS(互补金属-氧化物-半导体)工艺兼容、抗辐射性能强和可高密度集成等优点,迅速进入......
学位
HfO2基铁电薄膜
带电畴壁
“唤醒”效应
疲劳失效
表面能
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