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倒圆锥面基底蒸发镀膜均匀性理论分析
通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程,并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。结果表明:当圆......
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