本文采用分析纯TiO和KCO粉末为原料,采用固相反应制备KTiO粉末,然后经过湿磨,离心沉淀分离和旋转涂敷在普通玻璃表面制备KTiO薄膜,......

采用射频磁控溅射技术制备了Ge掺二氧化硅（Ge—SiO2）和Ge，Al共掺二氧化硅（Ge／Al—SiO2）两种复合薄膜，并进行了热退火处理形成了纳米Ge镶嵌......