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半导体蚀刻相关论文
氟负离子储存—发射功能材料及其在Si和SiO2蚀刻中应用基础研究
薄膜材料的制备及其性能研究是材料化学和材料物理领域的重要研究课题之一。氟负离子在半导体蚀刻、薄膜材料的制备及其改性、大气......
学位
氟负离子
储存发射功能材料
发射机理
半导体蚀刻
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