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压电雾化喷涂相关论文
基于压电雾化喷涂的光刻胶涂覆工艺及其应用研究
本文在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RFJ-210负性光刻胶为研究对象,抛光硅片为基材,分别研究了稀释体积比、速度以及距离等喷涂......
期刊
负性光刻胶
压电雾化喷涂
平均厚度
均匀性
抛光硅片
凸台结构
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