可控刻蚀相关论文
随着超大规模集成电路(ULSI)中器件密度不断提高、特征线宽不断减小,器件密度和连线密度的增加使得器件内部金属连线的电阻和绝缘......
综述了近年来胶体刻蚀领域的研究进展,分别讨论了基于胶体微粒和胶体晶体为模板的可控沉积与可控刻蚀及在固体平面基质、曲面基质......
多孔配位晶体内富含结构可调的微纳空腔,在客体分子、离子的存储与分离等领域有着重要的应用价值。通过电化学氧化还原,多孔配位晶......