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后道工艺(BEOL)相关论文
40nm一体化刻蚀工艺技术研究
用金属硬掩模层(MHM)进行一体化(AIO)刻蚀的工艺是40 nm节点后道工序的关键工艺技术。阐述了40 nm低功耗芯片工艺研发过程中,一体......
期刊
一体化刻蚀
金属硬掩模层
双大马士革
后道工艺(BEOL)
沟槽刻蚀
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