外延硅相关论文
本文通过C-V和C-F测试研究了热丝化学气相沉积(HWCVD)过程中不同缓冲层晶化度条件下太阳能电池的界面特性.缓冲层晶化度的提高可以......
用Pt、Ni或Pt/Ni金属膜修饰n~+/n-Si半导体表面后作为光阳极,在Fe(CN)_6~3-/4-溶液中组成光电化学电池,在最佳操作条件和65mW/cm~2......
本文介绍了厚度为5.2-6.0、10-13、19μm,有效面积为28-154mm^2的外延硅dE/dX探测器的研制工艺,主要用途,测试结果(对9.87MeV α粒子的能损△E的分辨率为56-128keV)和在核物理实验中的应......
简要介绍了微系统技术中几种新材料,如液相外延硅,多晶硅、金刚石膜,新型玻璃,碳化硅薄膜的性能和制备方法。......
在表面外延生长9μm的n型层的磷重掺杂的硅基底n—n+一Si)结构上沉积约40nm铂(Pt),经氩气保护673K热处理30min作为半导体电极(Pt/n—n+-Si)......