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射流约束相关论文

基于韦森堡效应的电纺直写射流约束与定位沉积实验研究

电纺直写技术以其独特的原理性优势被认为是最具发展前景的微纳制造技术之一，提高射流的稳定性和有机微纳结构的沉积精度是将电纺直......

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微纳制造电纺直写技术韦森堡效应泰勒锥射流约束稳定性分析沉积控制

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