引导自组装相关论文
嵌段共聚物引导自组装是一种获得特征尺寸小于10 nm 图案的新光刻技术。然而，共聚物自组装通常形成周期性纳米结构，不能形成可预测的......
快速地获得宏观有序纳米结构是共聚物应用于半导体工业中急需解决的问题之一。溶剂蒸气退火和区域退火是两种典型的调控共聚物长程......
嵌段共聚物引导自组装是制备sub-10 nm尺寸半导体器件的潜在技术方案之一。然而由于缺少高效准确的实验室分析工具,难以对嵌段共聚......
快速地获得宏观有序纳米结构是共聚物应用于半导体工业中急需解决的问题之一。溶剂蒸气退火和区域退火是两种典型的调控共聚物......
嵌段共聚物引导自组装技术(DSA)是10nm制程工艺的潜在技术之一。目前，嵌段共聚物引导自组装研究主要采用聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸甲......
通过电子束刻蚀、极远紫外光刻蚀或193 nm液浸曝光制备特征尺寸小于10 nm的结构存在产率低、成本高、工艺复杂的缺点。嵌段共聚物......
