采用对向靶磁控溅射法在不同气压和Ar/O2流量比条件下,以氟化SnO2(FTO)导电玻璃为基底制备了多晶TiO2薄膜.台阶仪测量结果显示所制......

　　采用石英做介质阻挡层，对高气压XeI*准分子紫外光源进行了实验研究，从放电功率、放电频率、总气压、气体配比等参数分析了光源的......

本文采用射频磁控溅射法在Pt/Al2O3衬底上制备了2mol％Mn2+掺杂的Br0.5Sr0.5TiO3(BST)薄膜。分析了衬底表面沉积粒子的能量状态，对溅......

本文探讨了低功率的普通卤钨灯和大功率的特种卤钨灯填充物质种类和气压选择对灯光电参数以及寿命的影响.实验表明综合考虑寿命和......

着重研究了采用热丝辅助等离子体化学气相沉积+负偏压技术,在CN薄膜制备过程中各种工艺参数(射频功率、衬底负偏压和衬底温度等)对......

最近的研究表明,TiN薄膜除了具有优良的化学稳定性和力学性能外,如果把它涂在显示器件上,TiN薄膜还具有良好的减反和抗静电性能.由......

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