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局部高台阶对注入层全局关键尺寸均匀性的影响

在集成电路制造过程中,注入层高台阶分布状态是注入层光刻胶关键尺寸(critical dimension,CD)均匀性质量优劣的重要影响因素之一。......

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关键尺寸均匀性高台阶注入层曝光图形光刻良率 critical dimension uniformity high steps implant layer

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