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本征结相关论文
本征Josephson单结的电流-电压特性
本文采用光刻蚀和Ar离子刻蚀技术成功地在Bi-2212单晶表面制备出台阶型本征Josephson单个结,并在5~65K范围内用四引线法测量了该结......
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超薄单晶基底本征约瑟夫逊结的制备
为了加强本征约瑟夫逊结(简称本征结)与高频电磁波信号的耦合,我们通过平面工艺手段获得了厚度小于伦敦穿透深度的超薄单晶基底,其......
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