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氢离子刻蚀相关论文
Si3N4/SiO2复合栅介质电离辐照的电子能谱分析
采用氩离子刻蚀X光激发电子能谱分析方法对Si3N4/SiO2/Si复合栅介质系统进行电离辐照剖析.实验结果表明存在一个由Si3N4和SiO2构成......
期刊
Si3N4/SiO2复合栅介质
电离辐照
X光激发电子能谱
氢离子刻蚀
Si过渡态
Electric properties
Electron irradiati
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