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甲烷掺杂相关论文
甲烷掺杂SiCOH薄膜的制备和性能研究
通过在前驱气体D5源中添加甲烷,由ECRCVD沉积技术制备出了低介电常数的SiCOH薄膜,在甲烷流量为2sccm的条件下,获得了k值为2.45的薄膜......
学位
低介电常数
甲烷掺杂
SiCOH薄膜
化学键结构
退火气氛
热处理对掺CH4的SiCOH薄膜结构及性能的影响
随着超大规模集成电路的特征线宽不断减小,导致信号传输延时、功耗增大以及互连阻容耦合增大等问题,为了解决这一问题,多孔低(超低......
学位
甲烷掺杂
SiCOH薄膜
热处理
化学键结构
湿水性
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