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白光快速退火相关论文

GaAs上Ge薄膜的性能研究

用超高真空镀膜机在半绝缘GaAs衬底上蒸镀800nm Ge，Ge薄膜在500℃以上退火有再结晶过程，退火后由非晶变成多晶.在Ge和GaAs界面处有互......

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Ge/GaAs 白光快速退火再结晶界面扩散光纤通信光电材料 Ge/GaAs RTA recrystalize inter-diffusion at

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