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掺硼金刚石(BDD)涂层电极具有电势窗口宽、析氧过电位高、背景电流低、稳定性高等特性,在对实际废水的处理过程中具有目标降解物范......
在工业冶炼碳化硅（SiC）过程中,在石墨基体上制备具有耐磨特性的SiC镀层。讨论了SiC镀层的形成过程,采用X射线衍射仪（XRD）分析了SiC镀层......
本文介绍了高温气冷堆(HTGR)球形燃料元件的半/全冷等静压制造工艺。该工艺主要包括:石墨压型粉制备,颗粒“穿衣”,半/全冷等静压......
采用一甲基三氯硅烷(CH3SiCl3,MTS)和高纯氢气(H2)为原料,通过化学气相沉积技术(CVD)在石墨基体表面沉积了一层碳化硅(SiC)膜。采......
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通过循环伏安法和恒电位阶跃暂态法,研究硫酸铜-硫酸溶液中铜在石墨基体上的电沉积行为,并利用扫描电子显微镜观察石墨基体表面金......
石墨—碳化硅复合材料及其制法（特公平５－８３５１７）专利权限这是关于石墨—碳化硅复合材料的制造方法，权限如下：１、在石墨基体材料表面浸渍占石墨基......
