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碳氢掺杂相关论文
掺CH4的SiCOH低介电常数薄膜结构与介电性能研究
以十甲基环五硅氧烷和甲烷作为反应气体,采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法制备了k=2.45,485℃下的热稳定性优良......
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低介电常数
SiCOH薄膜
碳氢掺杂
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