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原子层刻蚀(ALE),是与原子层沉积(ALD)相对的反应,通过自限制的去除表面最外层分子,实现原子/分子层精度的刻蚀。随着近年来半导体......

等离子体刻蚀是半导体集成电路（Integrated Circuit,IC）制造工艺中的重要环节,近年来随着IC集成度的不断提高,特征尺寸不断缩小,此外......