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Ge单晶片的碱性化学腐蚀抛光研究
采用湿法化学腐蚀技术,研究(3e单晶片在NaOH—H2O2体系中的化学腐蚀抛光特性。通过改变腐蚀液配比、腐蚀时间、腐蚀容器,分析锗单晶腐......
期刊
锗单晶
碱腐蚀
抛光
粗糙度Rq
single-crystalline germanium alkali etching polishing roughness
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